真空气氛炉工作原理和工艺处理介绍

　　真空气氛炉可应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空或气氛条件下的热处理工艺。也用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门、工矿企业电子陶瓷产品的预烧、烧结、钎焊等工艺。
 

　　工作原理：
 

　　真空气氛炉是一种将真空技术与热处理技术相结合的新型热处理技术，与常规热处理相比，真空热处理的同时，可实现无氧化、无脱碳、无渗碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脱脂除气等作用，从而达到表面光亮净化的效果。其工作原理是把物体在通入一定气体的炉膛内进行烧结的方法进行。
 

　　工艺处理：
 

　　真空热处理是指热处理工艺的全部和部分在真空状态下进行的，其中包括低真空、中等真空、高真空和超高真空等，真空热处理可以实现几乎所有的常规热处理所能涉及的热处理工艺，但热处理质量大大提高，实际上真空热处理也是属于气氛控制热处理范畴。
 

　　对于真空气氛炉来说由于其气氛的形式有很多种，因此需根据物料的特性来选择合适的气氛形式，例如透明氧化铝陶瓷可用氢气氛烧结，透明铁电陶瓷宜用氧气氛烧结，氮化物陶瓷如氮化铝等宜用氮气氛烧结。有时为保护烧结调协也须在保护气氛中操作。如钼丝炉宜通氢，钨丝炉宜在真空条件下工作。